特許
J-GLOBAL ID：200903004984109521
脱銅電解における給液調整方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
押田 良輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-077736
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262389
出願日： 2000年03月21日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 塩素浸出工程でのニッケル浸出率を高く維持できるとともに、脱銅電解工程の電流効率の向上によるランニングコスト低減を計ることのできる脱銅電解における給液調整方法を提供する。【解決手段】 ニッケルおよび銅を含有した原料を塩素で浸出し、該浸出液中の銅イオンの少なくとも一部を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱銅電解方法において、酸化還元電位調整槽に含銅塩化ニッケル溶液と還元剤と塩酸を供給してpHと酸化還元電位を調整し、液中の2価銅イオンの大部分を還元させた後、脱銅電解工程へ供給する。また脱銅電解給液の酸化還元電位を200mV〜500mV(Ag/AgCl電極)の範囲となるように、さらには前記調整槽へ供給する含銅塩化ニッケル溶液の流量変動に追随させて、還元剤の添加量を調整することが好ましい。
請求項（抜粋）：
主としてニッケルおよび銅を含有した原料を塩素で浸出し、該浸出液からその中に溶存している銅イオンの少なくとも一部を電解採取法によって除去するニッケル塩素浸出法の脱銅電解方法において、酸化還元電位調整槽に含銅塩化ニッケル溶液と還元剤と塩酸とを供給してpHと酸化還元電位を調整し、液中の2価銅イオンの大部分を1価銅イオンへ還元させた後、脱銅電解工程へ供給することを特徴とする脱銅電解における給液調整方法。
IPC (6件)：
C25C 1/12
, C22B 3/46
, C22B 3/04
, C22B 7/04
, C22B 15/00
, C22B 23/00
C25C 1/12
, C22B 7/04 B
, C22B 3/00 U
, C22B 3/00 A
, C22B 15/08
, C22B 23/04
4K001AA09
, 4K001AA19
, 4K001BA10
, 4K001DB04
, 4K001DB21
, 4K001HA02
, 4K001HA12
, 4K058AA14
, 4K058AA21
, 4K058BA21
, 4K058BB04
, 4K058CA05
, 4K058CA08
, 4K058CA12
, 4K058CA20
, 4K058FA02
