特許

J-GLOBAL ID：200903004999457348

機能性膜パターン形成方法

発明者： 東 耕平 ,  田中 淳 ,  梅田 賢一 ,  幸田 勝博 ,  砂川 寛
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛 ,  我妻 慶一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-145710
公開番号（公開出願番号）：特開2009-291684
出願日： 2008年06月03日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：

【課題】インクジェットヘッドによる機能性膜パターン形成方法において、形成される機能性膜パターンの低抵抗化を図るとともに、この機能性膜パターンの形成を1回の走査工程で実現する。【解決手段】直線からなる機能性膜パターン部4の長手方向をインクジェットヘッド110の走査方向に対して下記式を満足する所定角度θで傾ける。一定の間隔で配された複数の吐出口111から機能性微粒子Bを含有した液滴Lを吐出するインクジェットヘッド110を基板1上で走査する。基板1上に着弾された液滴Lにより直線からなる機能性膜パターン部4に機能性膜パターンPを形成する。d<2rSINθ(式中、dは、隣接する液滴の中心間距離の走査方向に対する垂直成分距離、rは、液滴の着弾後の半径である。但し、θ≠0である。)【選択図】図4

請求項（抜粋）：

一定の間隔で配された複数の吐出口から機能性微粒子を含有した液滴を吐出するインクジェットヘッドを基板上で走査して、該基板上に着弾された前記液滴により直線からなる機能性膜パターン部に機能性膜パターンを形成する機能性膜パターン形成方法において、 前記直線からなる機能性膜パターン部の長手方向を前記インクジェットヘッドの走査方向に対して下記式を満足する所定角度θで傾けて走査することを特徴とする機能性膜パターン形成方法。 d<2rSINθ (式中、dは、隣りあう前記液滴の中心間距離の前記走査方向に対する垂直成分距離、rは、前記液滴の着弾後の半径である。但し、θ≠0である。)

IPC (3件)：

B05D 1/26 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

B05D1/26 Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (18件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC11 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG08 ,  4D075AC07 ,  4D075AC73 ,  4D075AC78 ,  4D075AC88 ,  4D075AC93 ,  4D075CA22 ,  4D075CB38 ,  4D075DA00 ,  4D075DB13 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EC08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 配線形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-276519   出願人：セイコーエプソン株式会社