特許
J-GLOBAL ID:200903004999517413

ウェハ支持部材

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-130399
公開番号(公開出願番号):特開2004-312026
出願日: 2004年04月26日
公開日(公表日): 2004年11月04日
要約:
【課題】ウェハの表面温度を正確にかつ追従性良く測定することが可能なウエハ支持部材を提供する。【解決手段】板状セラミック体2の一方の主面側を、ウェハWを載せる載置面とし、上記板状セラミック体2の他方の主面又は内部に抵抗発熱体5を備えるとともに、上記板状セラミック体2の他方の主面に凹部9を設け、この凹部9内に、測温素子8aとリード線8とからなる測温体を挿入し、固定部材17にて保持するとともに、上記測温体の測温素子8aからリード線8が固定部材17より露出するまでのリード線の長さを、上記リード線8の線径の2倍より大きく30倍以下とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
板状セラミック体の一方の主面側を、ウェハを載せる載置面とし、上記板状セラミック体の他方の主面又は内部に抵抗発熱体を備えるとともに、上記板状セラミック体の他方の主面に凹部を有し、該凹部内に、測温素子とリード線とからなる測温体を挿入し、固定部材にて保持するようにしたウエハ支持部材であって、上記測温体の測温素子からリード線が固定部材より露出するまでのリード線の長さを上記リード線の線径の2倍より大きく30倍以下とし、上記測温体のリード線の線径をA、測温素子から抵抗発熱体までの最短距離をL1、測温素子から板状セラミック体の一方の主面へ鉛直に延ばした垂線と板状セラミック体の一方の主面との交点から抵抗発熱体までの最短距離をL2とした時、次の関係を満足することを特徴とするウエハ支持部材。 (L2-7×A)<L1<(L2-A)
IPC (6件):
H01L21/02 ,  H01L21/68 ,  H05B3/00 ,  H05B3/10 ,  H05B3/20 ,  H05B3/74
FI (7件):
H01L21/02 Z ,  H01L21/68 N ,  H05B3/00 365C ,  H05B3/00 365J ,  H05B3/10 A ,  H05B3/20 393 ,  H05B3/74
Fターム (37件):
3K034AA02 ,  3K034AA10 ,  3K034AA34 ,  3K034BB06 ,  3K034BB14 ,  3K034BC12 ,  3K034BC17 ,  3K034DA01 ,  3K034DA08 ,  3K034GA07 ,  3K034JA10 ,  3K058AA42 ,  3K058AA73 ,  3K058BA19 ,  3K058CA23 ,  3K058CA91 ,  3K058CE19 ,  3K058CE21 ,  3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB44 ,  3K092QB76 ,  3K092RF03 ,  3K092RF11 ,  3K092RF22 ,  3K092UA05 ,  3K092UA17 ,  3K092UA18 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031JA46 ,  5F031PA11 ,  5F031PA30
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • ホットプレートユニット
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-080987   出願人:イビデン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-191593   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-98784号公報
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審査官引用 (3件)
  • セラミックヒータ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-000149   出願人:イビデン株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-191593   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-291716   出願人:東京エレクトロン株式会社

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