特許
J-GLOBAL ID：200903005018167295
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-095556
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283184
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 気泡による処理液の飛散を防止し、スループットの向上及び歩留まりの向上を図る。【構成】 半導体ウエハWにリンス液Bを供給するリンス液供給ノズル24と、リンスタンク41とをリンス液供給管40を介して連通し、リンスタンク41にN2ガス供給源43を接続して、N2ガスの加圧によってリンス液Bをリンス液供給ノズル24に供給する。リンス液供給管40の途中に、このリンス液供給管40より大径の脱気管47を上方に向けて分岐して脱気機構50を形成し、脱気管47に気液分離用のトラップタンク48を設ける。これにより、リンス液供給時に、リンス液中に含まれる気泡を脱気管47を介して排出することができる。
請求項（抜粋）：
被処理体に処理液を供給する処理液供給手段と、処理液を収容する処理液供給源とを供給管を介して連通し、上記処理液供給源の処理液を加圧する気体によって上記供給管を介して上記処理液供給手段に処理液を圧送する処理装置において、上記供給管の途中に、この供給管より大径の脱気管を上方に向けて分岐してなる脱気機構を設けたことを特徴とする処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 361
, B05C 11/08
, B05C 11/10
, B08B 3/02
