特許
J-GLOBAL ID:200903005019336899
潤滑油基油の製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤吉 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-007192
公開番号(公開出願番号):特開2007-186638
出願日: 2006年01月16日
公開日(公表日): 2007年07月26日
要約:
【課題】(A)目的とする低温特性を得ることができ、(B)色相などの潤滑油基油の性能を悪化させることなく、(C)長期間、安定に運転することができ、さらに、(D)芳香族分を適切な範囲に制御することが可能な潤滑油基油の製造方法を提供する。【解決手段】(1)潤滑油基油中間体を、第1の水素化処理触媒と水素の存在下で、油中の塩基性窒素分を20重量ppm以下、芳香族分を40重量%以下、かつ、全芳香族分中の一環芳香族分を70重量%以上、三環以上の芳香族分を2重量%以下とする第1の水素化処理を行い、(2)第1の水素化処理の流出油からアンモニアを分離した精製油とし、(3)この精製油を、ゼオライトを含有する水素化脱ろう触媒と水素の存在下、反応系中のアンモニア濃度100重量ppm以下で、流動点を-20°C以下とする水素化脱ろう処理を行うものである。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
潤滑油基油中間体を、第1の水素化処理触媒と水素の存在下で、油中の塩基性窒素分を20重量ppm以下、芳香族分を40重量%以下、かつ、全芳香族分中の一環芳香族分を70重量%以上、三環以上の芳香族分を2重量%以下とする第1の水素化処理を行い、
第1の水素化処理の流出油からアンモニアを分離した精製油とし、
この精製油を、ゼオライトを含有する水素化脱ろう触媒と水素の存在下、反応系中のアンモニア濃度100重量ppm以下で、流動点を-20°C以下とする水素化脱ろう処理を行う
潤滑油基油の製造方法。
IPC (3件):
C10G 65/04
, C10M 169/04
, C10M 101/02
FI (3件):
C10G65/04
, C10M169/04
, C10M101/02
Fターム (18件):
4H029DA01
, 4H029DA09
, 4H029DA10
, 4H029DA11
, 4H029DA13
, 4H104DA02A
, 4H104EA04A
, 4H104EA11A
, 4H104LA01
, 4H104PA01
, 4H104PA02
, 4H104PA03
, 4H104PA05
, 4H104PA07
, 4H104PA12
, 4H104PA20
, 4H104PA21
, 4H104PA41
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
特公平6-007926号公報
-
特公平6-062960号公報
審査官引用 (1件)
-
電気絶縁油の製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-088238
出願人:株式会社ジャパンエナジー
前のページに戻る