特許

J-GLOBAL ID：200903005034171464

描画システム

発明者： 鷲山 裕之
出願人/特許権者： 株式会社オーク製作所
代理人 (5件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹 ,  野中 剛 ,  虎山 滋郎 ,  坪内 伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-147878
公開番号（公開出願番号）：特開2007-316473
出願日： 2006年05月29日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：

【課題】描画処理において、ノウハウ的知識に基づいたセッティングをすることなく、適切な描画パターンを形成する。【解決手段】あらかじめ設定された発光長に従い、2つの式に基づいて露光動作ピッチEP、走査速度Vを算出する。そして、様々な露光量および発光長とそれに対応する走査速度,露光動作ピッチの中で、選択される露光量、発光長に応じた走査速度、露光動作ピッチを決定し、露光パラメータとして描画処理において設定する。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

複数の光変調素子が規則的に走査方向に沿って配列された光変調ユニットを用い、前記光変調ユニットによる露光エリアを被描画体に対して相対的に一定速度で走査させ、各光変調素子による露光スポットをオーバラップさせるように露光動作時間間隔に従って露光動作を実行する描画システムにおいて、

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/08

FI (3件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 515F ,  G03F1/08 B

Fターム (16件)：

2H095BB08 ,  2H095BB33 ,  2H097AA03 ,  2H097AB07 ,  2H097BB01 ,  2H097BB03 ,  2H097CA17 ,  2H097GB04 ,  2H097LA09 ,  5F046AA06 ,  5F046BA06 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB18 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 多重露光描画方法及び多重露光描画装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-278031   出願人：ペンタックス株式会社