特許
J-GLOBAL ID：200903005072839274

フォトリソグラフィ用マスク、薄膜形成方法、並びに液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法

発明者：
今井 雅人

今井 雅人 について

, 
前原 鑑

前原 鑑 について

, 
福永 容子

福永 容子 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (3件)： 小池 晃 ,  田村 榮一 ,  伊賀 誠司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-008076
公開番号（公開出願番号）：特開2005-165352
出願日： 2005年01月14日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】 単一プロセスによって多段構造を有する薄膜を効率よく良好に形成する。【解決手段】 遮光部3、半透過部4及び透過部5が設けられたフォトリソグラフィ用マスク1において、複数の半透過部4及び透過部5を有し、互いに隣接する半透過部4又は透過部5を透過する光の位相差を任意に設定し、複数の半透過部4及び透過部5の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
遮光領域と、複数の透過領域とが設けられたフォトリソグラフィ用マスクにおいて、 上記複数の透過領域のうち隣接する透過領域を透過する光の位相差が任意に設定され、上記透過領域の数以上の段差を有する薄膜パターンを形成することを特徴とするフォトリソグラフィ用マスク。
IPC (3件)：
G03F1/08 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/20
FI (4件)：
G03F1/08 A ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1335 500 ,  G03F7/20 501
Fターム (20件)：
2H091FA02Y ,  2H091FB02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC26 ,  2H091FD04 ,  2H091GA07 ,  2H091JA03 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16 ,  2H091LA20 ,  2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BB35 ,  2H095BC09 ,  2H095BC24 ,  2H097AA06 ,  2H097BB04 ,  2H097GA45 ,  2H097LA12
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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