特許

J-GLOBAL ID：200903005075306536

非球面形状測定方法

発明者： 末永 健太郎
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-317503
公開番号（公開出願番号）：特開2006-126103
出願日： 2004年11月01日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：

【課題】干渉計による非球面測定が低コストで実現可能であって、尚且つ高精度に面形状測定が可能な非球面形状測定方法を提供すること。【解決手段】被検物上の被検面で反射した被検光と参照波面を有する参照光とを互いに干渉させることにより得られる干渉縞を検出器により検出し、検出された干渉縞の情報に基づいて前記被検面の面形状を測定する干渉計において、干渉計により被検面の面形状を測定する実測定工程と、前記干渉計内の光学素子の情報を用い屈折の法則に基づいて光線が通る座標を計算する所謂光線追跡により前記干渉計による面形状測定の模擬実験を行う模擬実験工程と、前記実測定工程により測定した面形状実測定データと前記模擬実験工程により計算した面形状模擬実験データが一致するように前記被検面形状を定め面形状測定結果として出力する面形状決定工程を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検物上の被検面で反射した被検光と参照波面を有する参照光とを互いに干渉させることにより得られる干渉縞を検出器により検出し、検出された干渉縞の情報に基づいて前記被検面の面形状を測定する干渉計において、干渉計により被検面の面形状を測定する実測定工程と、前記干渉計内の光学素子の情報を用い屈折の法則に基づいて光線が通る座標を計算する所謂光線追跡により前記干渉計による面形状測定の模擬実験を行う模擬実験工程と、前記実測定工程により測定した面形状実測定データと前記模擬実験工程により計算した面形状模擬実験データが一致するように前記被検面形状を定め面形状測定結果として出力する面形状決定工程を備えることを特徴とする非球面形状測定方法。

IPC (2件)：

G01B 11/24 ,  G01B 9/02

FI (3件)：

G01B11/24 D ,  G01B9/02 ,  G01B11/24 A

Fターム (23件)：

2F064AA09 ,  2F064BB03 ,  2F064DD01 ,  2F064DD08 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG22 ,  2F064GG44 ,  2F064HH03 ,  2F064HH07 ,  2F064JJ01 ,  2F064KK04 ,  2F065AA46 ,  2F065BB05 ,  2F065BB21 ,  2F065CC22 ,  2F065FF51 ,  2F065JJ19 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065QQ21 ,  2F065RR10 ,  2F065UU05

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 非球面形状の計測方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-260169   出願人：株式会社ニコン