特許
J-GLOBAL ID：200903005078368915
ホトマスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-265677
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072454
出願日： 2000年09月01日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：
【要約】【課題】 リソグラフィ工程で用いられるホトマスクにおいて、ホトマスクの遮光膜の側面から発生する反射光により光学像のコントラストが劣化するのを防止する。【解決手段】 ホトマスクの遮光膜の側面で、露光波長に対する反射率が25%以下になるようにする。また、光透過性基板に遮光膜のパターンを形成し、この遮光膜の少なくとも側面に露光波長に対する反射率が25%以下となるような反射防止膜を形成する。
請求項（抜粋）：
リソグラフィ工程で用いられる ホトマスクであって、光透過性基板に遮光膜のパターンを形成しこの遮光膜の側面の露光波長に対する反射率を25%以下にしたことを特徴とするホトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 F
, G03F 1/08 L
