特許
J-GLOBAL ID:200903005213178501
ナノバブルによる水処理装置及びナノバブルによる水処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
相川 俊彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-018554
公開番号(公開出願番号):特開2008-183502
出願日: 2007年01月29日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】大量のバラスト水に対応でき、簡便に水生生物に対して効果的な死滅効果を得ることができるナノバブル発生装置及び方法を提供する。【解決手段】酸素が溶存する水若しくは水溶液に超微細気泡(以下「ナノバブル」という)を発生させる方法や装置に関し、水酸基及び/又はOHラジカルラジカルを発生させるベータ線照射や、高圧水を噴射してナノバブルを発生させて、前記ナノバブルの界面に水酸基及び/又はOHラジカル配置させることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
酸素が溶存する水若しくは水溶液に超微細気泡(以下「ナノバブル」という)を発生させる装置であって、
水酸基及び/又はOHラジカルを発生させるベータ線照射手段と、
高圧水を噴射可能なナノバブル発生手段と、を備え、
前記ナノバブルの界面に水酸基及び/又はOHラジカルが存在することを特徴とするナノバブル発生装置。
IPC (6件):
B01F 3/04
, C02F 1/30
, C02F 1/50
, C02F 1/76
, B82B 3/00
, C01B 11/04
FI (10件):
B01F3/04 Z
, C02F1/30
, C02F1/50 510E
, C02F1/50 520F
, C02F1/50 531M
, C02F1/50 540B
, C02F1/50 550D
, C02F1/76 A
, B82B3/00
, C01B11/04
Fターム (20件):
4D037AA02
, 4D037AA06
, 4D037AB03
, 4D037BA16
, 4D037BB09
, 4D050AA06
, 4D050AB06
, 4D050BB04
, 4D050BC10
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050CA20
, 4G035AA01
, 4G035AB04
, 4G035AB05
, 4G035AC18
, 4G035AC33
, 4G035AE05
, 4G035AE13
, 4G035AE19
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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微小気泡の圧壊
公報種別:再公表公報
出願番号:JP2004014561
出願人:株式会社REO研究所, 独立行政法人産業技術総合研究所
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曝気装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-140155
出願人:山本孝
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陰イオン発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-013578
出願人:株式会社ファイン, 山路達範
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