特許
J-GLOBAL ID：200903005215152160
スパッター膜の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-108838
公開番号（公開出願番号）：特開2000-303172
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：
【要約】【解決手段】 スパッター室内において基板を所定速度で移動させると共に、上記スパッター室内に配設されたターゲットからのスパッター粒子によるスパッター膜を上記基板表面に形成する、基板に対するスパッター膜の形成方法において、上記基板の移動方向に対して直角方向に沿って左右に一対のターゲットを配設すると共に、これら一対のターゲットを互いに基板側の面が向き合う状態でそれぞれ基板面に対して傾斜して配置させて、スパッター成膜を行うことを特徴とする基板に対するスパッター膜の形成方法。【効果】 本発明によれば、基板の面内膜厚分布が改良され、スパッター膜の優れた膜厚均一性を達成し得る。
請求項（抜粋）：
スパッター室内において基板を所定速度で移動させると共に、上記スパッター室内に配設されたターゲットからのスパッター粒子によるスパッター膜を上記基板表面に形成する、基板に対するスパッター膜の形成方法において、上記基板の移動方向に対して直角方向に沿って左右に一対のターゲットを配設すると共に、これら一対のターゲットを互いに基板側の面が向き合う状態でそれぞれ基板面に対して傾斜して配置させて、スパッター成膜を行うことを特徴とする基板に対するスパッター膜の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 C
, G03F 1/08 L
2H095BB25
, 2H095BB31
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029CA15
, 4K029DC16
, 4K029JA01
