制御された小環境を有するウエハの大気圧搬送モジュール

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-527326
公開番号（公開出願番号）：特表2003-510837
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：

【要約】大気圧搬送モジュールが提供される。モジュールは、トップ領域と、中央領域と、ボトム領域と、ロードセル領域と、を有した囲いハウジングを含む。ブロアは、囲いハウジングのトップ領域の中に設けられ、中央領域へと下向きに流れるエアフローを生成するように構成される。ロードセル領域の中に設けられたシェルフは、囲いハウジングの中央領域とボトム領域との境界を規定する。シェルフは、ロードセル領域の壁から少なくとも部分的に隔たれており、これによって、シェルフの後方においてスロットを規定する。多孔シートは、シェルフから水平方向に広がって、さらに中央領域とボトム領域との境界を規定するように構成される。この実施例において、ブロアによって生成されたエアフローは、多孔シートを自由に通らないように制約を加えられ、その一部分は、ロードセルのシェルフに向かいスロットを通ってさらに囲いハウジングのボトム領域に流れ込むようにリダイレクトされる。1つ以上のウエハを有したカセットは、ロードセルの中のシェルフの上に座するように構成され、このためリダイレクトエアフローに曝される。したがって、リダイレクトエアフローは、ウエハの表面の上を静かに流れることによって、ウエハが大気圧搬送モジュールの中に一時的に据えられている間に、ウエハの表面からプロセスガスおよび微粒子を除去するのに役立つ。

請求項（抜粋）：

大気圧搬送モジュールであって、調整されたエアフローを自身から遠ざかる下向きの方向に生成するためのブロアを有するトップ部分と、前記ブロアから横方向にずらして配置されたロードセル領域と、前記ロードセルはウエハカセットをサポートするためのシェルフを含み、前記シェルフは前記ロードセルの壁から隔てられることによってリダイレクトエアフロースロットを規定し、前記ブロアの下方に規定された多孔シートであって、自身を通るエアフローに制約を加え、さらに、前記ウエハカセットを通してリダイレクトエアフローを導入するように構成された多孔シートとを含んだハウジングを備える大気圧搬送モジュール。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/02

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/02 D

Fターム (15件)：

5F031CA02 , 5F031DA01 , 5F031DA08 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA45 , 5F031MA13 , 5F031MA21 , 5F031NA03 , 5F031NA07 , 5F031NA16 , 5F031NA18 , 5F031PA05

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平4-334579
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121871 出願人：国際電気株式会社
特開昭61-241075

審査官引用 (3件)

特開平4-334579
半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-121871 出願人：国際電気株式会社
特開昭61-241075

前のページに戻る