特許

J-GLOBAL ID：200903005317425160

露光装置及び露光方法

発明者： 山本 達則
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 堀 城之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-363337
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176743
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 ウエハのアライメント動作を複数回繰り返す必要が無くウエハアライメントに掛かる時間を短縮し、スループットを向上させることができる技術を提供する。【解決手段】 レチクル1上のパターンを感光膜付きのウエハ8に投影光学系12を介しパターン転写する露光装置において、複数のレチクル1、3を搭載するための複数のレチクルスキャンステージ2、4と、感光膜付きのウエハ8を搭載するウエハスキャンステージ9とを備え、前記投影光学系12は、各レチクルスキャンステージ上のレチクルの走査に同期する機能を有する構成とした。各レチクルスキャンステージは、レチクルの走査方向に間隔をおいて配置する。

請求項（抜粋）：

露光マスクであるレチクル上のパターンを感光膜付きの基板に投影光学系を介しパターン転写する露光装置において、レチクルスキャンステージに複数枚のレチクルを同時あるいは、任意に搭載でき、任意のレチクルによる露光処理と露光処理中に他のレチクルにて露光処理可能な機能を有することを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 503 D ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-106230   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-273427