特許
J-GLOBAL ID:200903005382863159
表示装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
高橋 明夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-058762
公開番号(公開出願番号):特開2000-258625
出願日: 1999年03月05日
公開日(公表日): 2000年09月22日
要約:
【要約】【課題】強度の優れた表面処理膜を形成した高コントラスト,高精細な表示装置を提供する。【解決手段】表示面上に表面処理膜が形成された表示装置において、前記表面処理膜が有機色素を含み、550〜600nm,650〜700nmおよび400〜450nmに吸収ピークを有することを特徴とする表示装置。
請求項(抜粋):
表示面上に表面処理膜が形成された表示装置において、前記表面処理膜が有機色素を含み、550〜600nm,650〜700nmおよび400〜450nmに吸収ピークを有することを特徴とする表示装置。
IPC (3件):
G02B 5/22
, H01J 29/89
, B32B 9/00
FI (3件):
G02B 5/22
, H01J 29/89
, B32B 9/00 Z
Fターム (47件):
2H048CA04
, 2H048CA09
, 2H048CA15
, 2H048CA19
, 2H048CA24
, 2H048CA25
, 4F100AA20H
, 4F100AA33B
, 4F100AB24B
, 4F100AB40B
, 4F100AH00B
, 4F100AR00B
, 4F100AR00C
, 4F100AR00D
, 4F100AS00A
, 4F100BA02
, 4F100BA04
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA10D
, 4F100CA13B
, 4F100CA30B
, 4F100DE00B
, 4F100DE01H
, 4F100EJ64B
, 4F100EK00
, 4F100HB00
, 4F100JG01B
, 4F100JG01H
, 4F100JG03
, 4F100JM00C
, 4F100JM00D
, 4F100JM02B
, 4F100JN06
, 4F100JN18C
, 4F100JN18D
, 5C032AA02
, 5C032DD02
, 5C032DE01
, 5C032DF03
, 5C032DG01
, 5C032DG02
, 5C032DG04
, 5C032EE03
, 5C032EF01
, 5C032EF05
引用特許: