特許

J-GLOBAL ID：200903005388649590

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 野澤 秀幸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-002654
公開番号（公開出願番号）：特開2009-164494
出願日： 2008年01月09日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：

【課題】装置内部の実装密度が高くても、メンテナンスのための空間を確保し、大規模な外部の重機を使用しないでメンテナンスの作業を行うことができ、作業効率を向上させる露光装置を提供する。【解決手段】原板のパターンを基板に投影露光する露光装置であって、光源からの照明光で前記原板のパターンを照明する照明光学系を支持する第1支持構造体と、前記原板を保持する原板ステージ及び前記第1支持構造体を支持する第2支持構造体と、前記第1支持構造体を前記第2支持構造体から鉛直方向に昇降する第1昇降装置と、を有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原板のパターンを基板に投影露光する露光装置であって、 光源からの照明光により前記原板のパターンを照明する照明光学系を支持する第1支持構造体と、 前記原板を保持する原板ステージ及び前記第1支持構造体を支持する第2支持構造体と、 前記第1支持構造体を前記第2支持構造体から鉛直方向に昇降する第1昇降装置と、を有することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 515Z ,  H01L21/30 503A ,  H01L21/30 515F

Fターム (9件)：

5F046AA23 ,  5F046BA03 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC13 ,  5F046CC15 ,  5F046CC16

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-396078   出願人：株式会社ニコン