窒素ガス供給設備

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：木戸一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-001125
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191093
出願日： 1995年01月09日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】プロセス装置及び搬送装置に必要十分な量と純度の窒素ガスを効率良く供給することができる窒素ガス供給設備を提供する。【構成】ウエハに所定の処理を行うプロセス装置1と、窒素ガストンネル式ウエハ搬送装置2とがゲート弁10を介して連設された窒素ガス使用装置に窒素ガスを供給する設備である。窒素ガス発生手段である深冷分離装置21で得た高純度窒素ガスをプロセス装置1に供給する経路22と、搬送装置2の出口部24と入口部25とを精製器26を介して連通させた循環経路27とを設けるとともに、液化窒素貯槽23から循環経路27に窒素ガスを補給する経路31を設ける。

請求項（抜粋）：

ウエハに所定の処理を行うプロセス装置と、該プロセス装置にウエハを搬送する窒素ガストンネル式ウエハ搬送装置とがゲート弁を介して連設された窒素ガス使用装置に窒素ガスを供給する設備であって、窒素ガス発生手段で得た窒素ガスを前記プロセス装置に供給する経路と、前記窒素ガストンネル式ウエハ搬送装置の出口部と入口部とを精製器を介して連通させた窒素ガスの循環経路とを設けるとともに、窒素貯槽から前記循環経路に窒素ガスを補給する経路を設けたことを特徴とする窒素ガス供給設備。

IPC (8件)：

H01L 21/68 , C23C 16/44 , H01L 21/02 , H01L 21/20 , H01L 21/3065 , C23C 14/32 , C23C 14/34 , C23C 14/46

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-158518
基板搬送システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-353608 出願人：株式会社荏原製作所
特開平4-000177

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