特許

J-GLOBAL ID：200903005416704802

微小構造体及びその製造方法

発明者： 井口 憲幸 ,  中田 正文 ,  飯田 一浩
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (4件)： 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-225409
公開番号（公開出願番号）：特開2006-072343
出願日： 2005年08月03日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】高スループットで、高精度に形状が加工され、微細な連続構造を有する微小構造体を得る。【解決手段】少なくとも1本の柱状構造と、柱状構造の側面を基部として側面方向に伸びるスリット形成部とを有し、スリット形成部が、柱状構造の中心軸に添った方向に20〜1000nmの間隔で並列された多数のスリットを有することを特徴とする微小構造体。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

少なくとも1本の柱状構造と、該柱状構造の側面を基部として側面方向に伸びるスリット形成部とを有し、 該スリット形成部が、該柱状構造の中心軸に添った方向に20〜1000nmの間隔で並列された多数のスリットを有することを特徴とする微小構造体。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/18

FI (2件)：

G02B5/30 ,  G02B5/18

Fターム (15件)：

2H049AA07 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA53 ,  2H049AA59 ,  2H049AA64 ,  2H049BA05 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BB62 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H049BC25

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 微細構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-202199   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 光造形ファブリケ-ション法及びこれを利用した金属構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-129297   出願人：新技術事業団
• 特開平1-261601号公報