特許
J-GLOBAL ID：200903007921897995

微細構造体の製造方法

発明者：
石田 方哉

石田 方哉 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-202199
公開番号（公開出願番号）：特開2002-023356
出願日： 2000年07月04日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：
【要約】【課題】 200nm以下の波長域の紫外光を用いた場合、フォトマスクの基材である石英基板や、大気などでの紫外光の吸収が多いため、紫外光の照射装置に特別の工夫が必要であった。【解決手段】 基板表面に有機分子膜を形成した後に、波長が200nm以上、380nm以下の範囲の紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する
請求項（抜粋）：
基板表面に膜厚が3nm以下の有機分子膜を形成した後に、波長が200nm以上、380nm以下の範囲の紫外光を照射して、有機分子膜の一部を除去する微細構造体の製造方法。
IPC (6件)：
G03F 7/004 531 ,  B05D 3/06 102 ,  B05D 7/24 302 ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/004 531 ,  B05D 3/06 102 B ,  B05D 7/24 302 Y ,  G03F 7/075 501 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 562
Fターム (25件)：
2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BF29 ,  2H025BF30 ,  2H025BG00 ,  2H097CA13 ,  2H097FA03 ,  2H097GA45 ,  2H097LA10 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB46Z ,  4D075BB50Z ,  4D075DA06 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EB42 ,  5F046CA04 ,  5F046CA07 ,  5F046CB17 ,  5F046JA01 ,  5F046JA22 ,  5F046LA14 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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