特許

J-GLOBAL ID：200903005420253793

超微粒子の製造方法

発明者： 常友 啓司 ,  大塚 俊介 ,  小山 正 ,  田中 修平
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-156857
公開番号（公開出願番号）：特開平7-008792
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年01月13日
要約：

【要約】【目的】 超微粒子の非線形効果等増大のために、粒径分布のバラツキの小さい超微粒子の簡便、効率的な製造捕集方法を提供する。【構成】 不活性ガスを導入した真空容器1中で、レーザー光4を超微粒子の原料となる材料2に照射加熱して発生させた蒸気またはその蒸気から形成した超微粒子の移動の一部を遮蔽物体3で妨げて、直進する蒸気または超微粒子が到達し得ない真空容器1中の位置に基板5を設置して超微粒子を捕集する超微粒子の製造捕集方法。

請求項（抜粋）：

超微粒子の原料となる材料を不活性ガス中で加熱蒸発させて発生させた蒸気を該不活性ガスと衝突させて急冷することにより超微粒子を形成する超微粒子製造方法において、該蒸気または該超微粒子の移動の一部を遮蔽物体で妨げることによって、直進する該蒸気または該超微粒子が到達しない空間を形成し、該空間内で超微粒子を捕集することを特徴とする超微粒子の製造方法。

IPC (3件)：

B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  B22F 9/12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭55-024985
  
• 特開昭56-083844
  
• 化合物半導体超微粒子気相製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-200433   出願人：日本板硝子株式会社