特許
J-GLOBAL ID：200903005630329946
処理チャンバ中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重信 和男 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-548414
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518555
出願日： 2000年12月15日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：
【要約】本発明は、空洞共振器(1)中のプラズマCVDコーティングチャンバ(3)内に結合したマイクロ波エネルギーを導入する装置に関する。本装置は、マイクロ波供給部(11)とマイクロ波導波管(9,1)を有する。本発明は、形状や寸法がある程度異なるプラスチック容器の内側をコーティング処理するため、次のようなほぼ円筒構造を持つ装置を提供するものである。すなわち、後端にアンテナ(12)を形成する内部ガイドを有する第1の同軸導波管(領域a)、中央にほぼ円筒形の導波管(領域b)が接続され、第2の同軸導波管(1)は先端に内部ガイド(13)を有する。ガスは、ガス供給チューブ(13)を通って第2の同軸導波管(領域c)中に導入される。ガスは、結合したマイクロ波エネルギーによりプラズマ状態に励起され、TMモードがアンテナ(12)によりプラズマ領域(1,c)に発生する。
請求項（抜粋）：
マイクロ波供給路(11)とマイクロ波導波管(9、1)を備え、第1の同軸導波管(領域a)が後端にアンテナ(12)形状の内部導体を有し、装置の中央にほぼ円筒形の導波管(領域b)が続き、先端(領域c)には第2の同軸導波管(1)が内部導体(13)を有するような実質的に円筒構造の装置であり、ガスはガス供給チューブ(13)を通って第2の同軸導波管(領域c)中に導入され、結合したマイクロ波エネルギーによりプラズマ状態に活性化され、プラズマ領域(1、c)中でアンテナ(12)によりTMモードが発生することを特徴とする空洞共振器(1)内に配置された処理チャンバ(3)中に、詳細にはプラズマCVDコーティングチャンバ(3)中にマイクロ波エネルギーを結合させる装置。
IPC (3件)：
C23C 16/511
, H01J 37/32
, H01P 7/06
C23C 16/511
, H01J 37/32
, H01P 7/06
4K030CA07
, 4K030CA15
, 4K030FA01
, 4K030JA01
, 4K030KA30
, 4K030LA24
, 5J006HC01
, 5J006HC13
, 5J006LA08
, 5J006NA01
