特許
J-GLOBAL ID：200903005729591472
マスク検査方法および検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-191056
公開番号（公開出願番号）：特開2001-021501
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 超小型電子回路の製造プロセスに使用されるステンシルマスク等において素早くマスクの検査をすることを目的とする。【解決手段】 光源から発せられた入射光は入射光用分光器を介して単色光に変換され、マスクステージ上の被検査マスク(ステンシルマスク)に入射される。マスクステージは制御用計算機で制御されている。ステンシルマスクを透過した透過光は、検出用分光器により不要な光を除去した後、光検出器により検出される。この検出信号は制御用計算機により保存される。検出した光のスペクトル又はカットオフ波長から被検査マスクの検査をすることができる。
請求項（抜粋）：
微小な透過孔を有するマスクに、選択された波長の光を入射させ、前記マスクを透過する光を検出し、透過する光のスペクトル又はカットオフ波長を検知することにより前記マスクの検査を行うことを特徴とするマスク検査方法。
Fターム (10件)：
2G051AA56
, 2G051AB20
, 2G051BA10
, 2G051BA20
, 2G051BB07
, 2G051CA02
, 2G051CB02
, 2G051CC07
, 2G051CC15
, 2G051DA05
