特許
J-GLOBAL ID：200903005738012914

平面型高分子光導波路及びその作製方法

発明者：
鈴木 健二

鈴木 健二 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 畑中 芳実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-338781
公開番号（公開出願番号）：特開2004-170830
出願日： 2002年11月22日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】作製が容易で、簡易な構成で良好なクラッドモード抑制の効果を有する平面型高分子光導波路を提供する。【解決手段】平面型高分子光導波路10は、通過光の波長が850nm付近に設定された光導波路であって、それぞれ、高分子有機化合物からなる、膜厚20μmの平板状のコア層11、及びコア層11を上下から挟む平板状のクラッド層12を備える。クラッド層12が、導波させる波長が850nm付近の光に対して、コア層11を構成する高分子有機化合物の吸収係数より大きい吸収係数を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
それぞれ、高分子有機化合物からなる、コア層、及びコア層を包む、又は挟むクラッド層を備えた平面型高分子光導波路において、 クラッド層が、導波させる光の波長に対して、コア層を構成する高分子有機化合物の吸収係数より大きい吸収係数を有する別の高分子有機化合物からなることを特徴とする平面型高分子光導波路。
IPC (2件)：
G02B6/12 ,  G02B6/13
FI (2件)：
G02B6/12 N ,  G02B6/12 M
Fターム (7件)：
2H047KA02 ,  2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA17 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA27
引用特許：
審査官引用 (5件)
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