特許
J-GLOBAL ID：200903086454538347
フォトブリーチング導波路の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-376534
公開番号（公開出願番号）：特開2002-182052
出願日： 2000年12月11日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 歩留まりが高く、散乱損失が低く、形状寸法の均一なフォトブリーチング導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 フォトブリーチング用のポリマ層3aをバッファ層2と上部クラッド層5とでサンドイッチ構造に覆い、上部クラッド層5の上面側か、バッファ層2の下面側からUV光10を照射してポリマ層3aが屈折率変化するようにパターニングするので、ポリマ層3a、すなわちコア層3及び側面クラッド層4-1、4-2の表面に段差が生じない。これは、ポリマ層3aがバッファ層2と上部クラッド層5とで密着したサンドイッチ構造になっているためである。この結果、超低散乱損失で形状寸法の均一なフォトブリーチング導波路を実現することができる。
請求項（抜粋）：
バッファ層の上面に、該バッファ層より屈折率の高いフォトブリーチング用のポリマ層及び厚さが100μm以下で該ポリマ層より屈折率が低い上部クラッド層を順次積層した後、紫外線光を透過する透明体板上に紫外線光を遮断するコアパターンの描かれたフォトマスクを上記上部クラッド層の上面に配置し、該フォトマスクの上から紫外線光を照射して上記ポリマ層に上記パターンを転写して高屈折率が維持されたコア層と該コア層の両側面に紫外線光が照射されて低屈折率に変化した側面クラッド層とを形成した後、上記上部クラッド層の上面に紫外線光遮蔽層を形成することを特徴とするフォトブリーチング導波路の製造方法。
Fターム (5件)：
2H047KA04
, 2H047PA01
, 2H047PA11
, 2H047QA07
, 2H047TA36
