特許
J-GLOBAL ID:200903005743792235
珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法とその装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-046594
公開番号(公開出願番号):特開平10-239223
出願日: 1997年02月28日
公開日(公表日): 1998年09月11日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造用に使用するモノシラン等の珪素化合物ガス中に微量混在するシロキサンを数ppb迄正確に分析可能にして、使用先で望まれる高純度の珪素化合物ガスを供給し得るよう、品質管理の向上を図る。【解決手段】 珪素化合物ガスSの貯蔵容器1、試料採取管2、質量分析計6、キャリアーガス源He、流量計Fを備えたガス排出管8等を6方位置切り替え弁9に連結し、予め100°C以上の温度に加熱器4で加熱処理後冷却器3でー15°C〜ー144°Cに冷却した試料採取管2に、貯蔵容器1より珪素化合物ガスSを所定量流通せしめて、シロキサンを試料採取管2内に凝縮せしめて捕集する。ついで6方位置切り替え弁9を操作して管路を切り替え、キャリアーガスHeを試料採取管2に送給するとともに、試料採取管2を徐々に加熱し、気化した成分を質量分析計6に搬送し分析する。ー15°C以上の温度で気化するシロキサンを質量分析計6の質量数77で検出し測定する。
請求項(抜粋):
加熱前処理した後の試料採取管に珪素化合物ガスを流通して該ガスを採取し、ついで試料採取管をシロキサンの沸点以下の温度に冷却した後に昇温して試料採取管より導出するガスを質量分析計に導き、該質量分析計でシロキサン量を測定することを特徴とする珪素化合物ガス中のシロキサンの分析方法。
IPC (4件):
G01N 1/22
, G01N 1/00 101
, G01N 1/28
, G01N 27/62
FI (4件):
G01N 1/22 X
, G01N 1/00 101 R
, G01N 27/62 F
, G01N 1/28 K
引用特許: