特許

J-GLOBAL ID：200903005864602425

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 稲部 陽樹 ,  漢那 慎一 ,  神田 博美
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-068172
公開番号（公開出願番号）：特開2006-171667
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。【解決手段】 (A)特定構造を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(A)で示される基を側鎖に有する繰り返し単位を含有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  C08F 20/26 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  C08F20/26 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502P

Fターム (58件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J100AK32S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AR11S ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BA05S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15S ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BB01P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07Q ,  4J100BC07S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12S ,  4J100BC43P ,  4J100BC52S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• アルカリ現像用レジスト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-213571   出願人：株式会社東芝
• 国際公開2004-068242A1号パンフレット