特許
J-GLOBAL ID:200903005872455148
物質状態測定装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-268837
公開番号(公開出願番号):特開2007-079278
出願日: 2005年09月15日
公開日(公表日): 2007年03月29日
要約:
【課題】 複数の深度における物質の状態を高い周波数をもって精度よく測定する。【解決手段】 厚みの異なる10個の調整ガラス34a〜34jを円環状に配置してなる円盤状のスキャニングディスク32をマイクロ流路12と対物レンズ22との間に配置し、スキャニングディスク32を回転するモータ38を設け、スキャニングディスク32を高速に回転させた状態で調整ガラス34a〜34jが対物レンズ22に整合するときに同期してカメラ28により撮影する。調整ガラス34a〜34jの厚さが異なることから、マイクロ流路12の厚さ方向に高い周波数をもって焦点位置を変化させてマイクロ流路12内の物質の状態を撮影することができる。この結果、マイクロ流路12の厚さ方向における物質の状態を高い周波数をもって精度よく測定することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
所定厚以下の物質の状態を測定する物質状態測定装置であって、
前記物質から所定距離に配置される対物レンズと、
前記対物レンズからの像を結ばせる結像光学系と、
該対物レンズの光軸方向への移動を伴わずに所定の周波数以上となる周期をもって焦点距離が前記所定厚内の複数の深度となるよう焦点距離を調整する焦点距離調整手段と、
を備える物質状態測定装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
2H052AA08
, 2H052AB25
, 2H052AB29
, 2H052AD03
, 2H052AD06
, 2H052AD18
, 2H052AD21
, 2H052AF03
, 2H052AF14
, 2H052AF21
, 2H052AF25
引用特許:
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