特許

J-GLOBAL ID：200903005882437946

蒸着装置および蒸着方法

発明者： 安田 寿和 ,  大前 暁 ,  風田川 統之 ,  目々澤 聡彦 ,  簗嶋 克典
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-148584
公開番号（公開出願番号）：特開2005-330519
出願日： 2004年05月19日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：

【課題】ガスを加熱する手段を蒸着装置とは別途に設けることなく、蒸発させた蒸着物質とともに所望の温度に加熱された高温のガスを被蒸着基板方向に供給することを可能にする。【解決手段】チャンバ11内に蒸着源12と被蒸着基板51とを対向して設けた蒸着装置1であって、蒸着源12は、蒸着材料を蒸発させるるつぼ13と、るつぼ13の外周側に沿って被蒸着基板方向にガス61を供給するガス流路14と、ガス流路14を加熱する加熱源15とを備えたもので、ガス流路14は、最下層から最上層方向にガスを流す複数層に構成した層状の流路141からなり、各層状の流路141に被蒸着基板51方向にガス流が向かうように開口部145が形成されているものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

チャンバ内に蒸着源と被蒸着基板とを対向して設けた蒸着装置であって、 前記蒸着源は、 蒸着材料を蒸発させるるつぼと、 前記るつぼの外周側に沿って前記被蒸着基板方向にガスを供給するガス流路と、 前記ガス流路を加熱する加熱源とを備えたもので、 前記ガス流路は、最下層から最上層方向にガスを流す複数層に構成した層状の流路からなり、前記最上層の流路に前記被蒸着基板方向にガス流が向かう開口部が形成されている ことを特徴とする蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/24 M ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (8件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DA06 ,  4K029DB12

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開2002?80961号公報
  
• 有機薄膜の低圧蒸着
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-521253   出願人：ザトラスティーズオブプリンストンユニバーシティ
• 特願2004-008847号明細書