マイクロチャンネルにおける無電解めっき法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：アクシス国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-535671
公開番号（公開出願番号）：特表2009-511748
出願日： 2006年10月13日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：

新規の無電解めっき方法を提供する。触媒被膜をマイクロチャンネル装置内に適用することができる。無電解触媒被膜によって燃焼及び水蒸気改質を含む様々な反応を実施することができる。

請求項（抜粋）：

Rhの無電解めっき方法であって、少なくとも1g/LのRh含有量を有するRhアミン錯体を含むRh含有水溶液を形成させ、ここで、該RH含有水溶液は、塩化物及び亜硝酸塩を本質的に含まないものとし; 該Rh含有水溶液と支持体とを接触させ; 該Rh含有水溶液と還元剤とを反応させ;そして該支持体にRhを付着させることを含む、Rhの無電解めっき方法。

IPC (2件)：

C23C 18/44 , C23C 18/18

FI (2件)：

C23C18/44 , C23C18/18

Fターム (19件)：

4K022AA01 , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022AA04 , 4K022AA35 , 4K022AA36 , 4K022AA41 , 4K022BA18 , 4K022BA35 , 4K022CA01 , 4K022CA03 , 4K022CA06 , 4K022CA21 , 4K022DA01 , 4K022DB01 , 4K022DB04 , 4K022DB26 , 4K022DB28 , 4K022DB29

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭54-056090
セラミック基材へのNiメタライズ法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-230972 出願人：松下電工株式会社
電磁誘導加熱式無電解めっき方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-138570 出願人：鳥養栄一

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