特許
J-GLOBAL ID:200903005970169978
超高純度気体供給設備
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
北村 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-217463
公開番号(公開出願番号):特開平10-061989
出願日: 1996年08月19日
公開日(公表日): 1998年03月06日
要約:
【要約】【課題】 次世代の半導体製造装置に対応すべく、温湿度が厳格に制御された超高純度気体が技術的に安定して供給でき、しかも安価な維持管理費にて運転可能な超高純度気体供給設備を提供する。【解決手段】 クリーンルームに対して、その内部の気体を導入して温湿度を調整する空気調和機と、その空気調和機から前記クリーンルーム内へ導入される気体を除塵する物理フィルタとを備えた微粒子除去経路を設けてある超高純度気体供給設備であって、前記微粒子除去経路とは別に、前記クリーンルーム内等の気体を導入してその気体中のイオンを除去する化学フィルタと、イオン除去された気体の温湿度を調整して、その気体を前記クリーンルーム内の複数の半導体製造装置に個別に供給する空気調和機とを備えたイオン除去経路を設けてある超高純度気体供給設備。
請求項(抜粋):
クリーンルームに対して、その内部の気体を導入して温湿度を調整する空気調和機と、その空気調和機から前記クリーンルーム内へ導入される気体を除塵する物理フィルタとを備えた微粒子除去経路を設けてある超高純度気体供給設備であって、前記微粒子除去経路とは別に、前記クリーンルーム内の気体を導入してその気体中のイオンを除去する化学フィルタと、イオン除去された気体の温湿度を調整して、その気体を前記クリーンルーム内の複数の半導体製造装置に個別に供給する空気調和機とを備えたイオン除去経路を設けてある超高純度気体供給設備。
IPC (4件):
F24F 7/06
, B01D 46/00
, B01D 53/04
, H01L 21/02
FI (4件):
F24F 7/06 C
, B01D 46/00 F
, B01D 53/04 Z
, H01L 21/02 D
引用特許:
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