乾燥装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：土井育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-200030
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035279
出願日： 1998年07月15日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】印刷、コーティングにおける塗膜の基材への密着性を向上させる。【解決手段】赤外線乾燥炉4や熱ロール8を用いる。さらには、残留溶剤低減のために、設備的に安価な温風炉10を併設する。塗膜に皮ばりを生じることなく、かつ塗膜内にて未乾燥の塗布液が対流を起こすので、溶剤が自然に外へ飛び出ることから、塗膜の基材への密着性が向上する。

請求項（抜粋）：

印刷、コーティングにおける塗膜の基材への密着性を向上させるにあたり、塗布済み基材を通過させて加熱、乾燥させる赤外線乾燥炉を用いたことを特徴とする乾燥装置。

IPC (2件)：

F26B 13/08 , B41F 23/04

FI (2件)：

F26B 13/08 A , B41F 23/04 A

Fターム (21件)：

2C020CA01 , 2C020CA03 , 2C020CA05 , 2C020CA06 , 3L113AB02 , 3L113AC10 , 3L113AC32 , 3L113AC45 , 3L113AC46 , 3L113AC48 , 3L113AC52 , 3L113AC54 , 3L113AC63 , 3L113AC64 , 3L113BA26 , 3L113BA30 , 3L113BA32 , 3L113DA02 , 3L113DA06 , 3L113DA18 , 3L113DA24

引用特許：

審査官引用 (4件)

レジスト膜の乾燥方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-316793 出願人：関西ペイント株式会社
乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-265753 出願人：大日本印刷株式会社
コーティング乾燥システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-228613 出願人：リサーチ,インコーポレイテッド

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