特許
J-GLOBAL ID:200903006151035144

光電変換装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-166593
公開番号(公開出願番号):特開2009-004702
出願日: 2007年06月25日
公開日(公表日): 2009年01月08日
要約:
【課題】透明電極/p型半導体層の界面での膜剥離が生じ難い光電変換装置を提供する。【解決手段】本発明の光電変換装置は、透光性基板上に、透明電極、少なくとも1つの光電変換層及び裏面電極をこの順に重ねて備え、前記少なくとも1つの光電変換層は、それぞれ、pin接合を有し且つシリコン系半導体からなり、前記透明電極は、SnO2を含む材料からなり、前記透明電極に接するp型半導体層は、前記透明電極側から順にp型微結晶層及びp型非晶質層を重ねて備えることを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
透光性基板上に、透明電極、少なくとも1つの光電変換層及び裏面電極をこの順に重ねて備え、 前記少なくとも1つの光電変換層は、それぞれ、pin接合を有し且つシリコン系半導体からなり、 前記透明電極は、SnO2を含む材料からなり、前記透明電極に接するp型半導体層は、前記透明電極側から順にp型微結晶層及びp型非晶質層を重ねて備えることを特徴とする光電変換装置。
IPC (1件):
H01L 31/04
FI (1件):
H01L31/04 W
Fターム (14件):
5F051AA04 ,  5F051AA05 ,  5F051BA11 ,  5F051CA16 ,  5F051CA17 ,  5F051CA22 ,  5F051CB12 ,  5F051DA04 ,  5F051DA15 ,  5F051DA20 ,  5F051FA02 ,  5F051FA03 ,  5F051FA04 ,  5F051GA03
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
  • 特開昭60-239068
  • 特開昭61-224368
  • 特開平4-056170
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