特許

J-GLOBAL ID：200903006162357429

厚膜パターン形成方法

発明者： 小坂 陽三 ,  倉持 悟
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 土井 育郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-045099
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055758
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【課題】 簡単な工程で精度の高いパターンを得られる厚膜パターン形成方法を提供する。【解決手段】 フィルム11上に感光性ペーストを塗布してパターン形成層12を形成し、このパターン形成層12が対向するようにしてガラス基板13にフィルム11をラミネートする。そして、フィルム11の上からマスクMを介して露光し、フィルム11を剥離した後、現像して未露光部12aを除去し、焼成工程を経てパターン14を得る。パターン形成層12に粘着性がない場合、フィルム11を剥離してから露光するようにしてもよい。パターン形成層12を基板13上に位置させて露光するため、工程の簡略化が図れるとともに、膜厚の均一性が良好なパターンが形成できる。

請求項（抜粋）：

少なくとも次の工程を含むことを特徴とする厚膜パターン形成方法。(1)感光性ペーストを予めフィルムに塗布して当該フィルム上にパターン形成層を形成する第1工程。(2)前記フィルムをそのパターン形成層側が対向するようにしてガラス基板にラミネートする第2工程。(3)前記フィルムの上から所定のマスクを介して前記パターン形成層を露光する第3工程。(4)前記フィルムを剥離した後、前記パターン形成層を現像して未露光部を除去する第4工程。(5)基板全体を焼成してパターン形成層の露光部をガラス基板に密着させる第5工程。

IPC (2件)：

H01J 9/14 ,  H01J 9/02

FI (2件)：

H01J 9/14 D ,  H01J 9/02 F

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-165538
  
• カラーフィルタ用着色ペースト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-053667   出願人：東レ株式会社
• 感光性ペースト
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-116375   出願人：東レ株式会社