特許

J-GLOBAL ID：200903006180022370

可視光型光触媒及びその製造方法

発明者： 杉原 愼一
出願人/特許権者： 有限会社環境デバイス研究所
代理人 (1件)： 塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113147
公開番号（公開出願番号）：特開2001-212457
出願日： 1999年08月13日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】アナターゼ型二酸化チタン等の酸化物半導体であって安定した酸素欠陥を有する可視光照射下で活性を有する触媒。酸化物半導体を水素プラズマ処理または希ガス類元素プラズマ処理する方法であって、処理系内への大気の侵入が実質的にない状態で上記処理を行う可視光型光触媒の製造方法。上記の触媒を基材表面に設けた物品。少なくとも可視光線を含む光を照射した上記の触媒に被分解物を接触させる物質の分解方法。可視光線も利用可能な新たな光触媒及びこの光触媒を利用して有機物や細菌を含む種々の物質を光分解して除去する方法が提供される。

請求項（抜粋）：

安定した酸素欠陥を有する二酸化チタン酸化物であって、真空中、77K、暗黒下で測定されたESRにおいて、g値が2.003〜4であるシグナルが観測され、かつこのg値が2.003〜4であるシグナルは真空中、77Kにおいて少なくとも420nm〜600nm範囲の波長の光を照射下で測定した場合、上記暗黒下で測定された場合よりシグナルの強度が大きいことを特徴とする可視光照射下で活性を有する触媒。

IPC (12件)：

B01J 21/06 ,  A61L 9/00 ,  A61L 9/18 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/94 ,  B01J 35/02 ZAB ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/34 ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25 ,  H01L 31/04

FI (13件)：

B01J 21/06 A ,  A61L 9/00 C ,  A61L 9/18 ,  B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/02 301 M ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/34 ,  C01G 23/053 ,  C03C 17/25 A ,  B01D 53/36 J ,  B01D 53/36 G ,  B01D 53/36 102 G ,  H01L 31/04 Z

Fターム (69件)：

4C080AA07 ,  4C080BB05 ,  4C080BB06 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080JJ04 ,  4C080KK08 ,  4C080LL02 ,  4C080MM02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA19 ,  4D048AA21 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4G047CA02 ,  4G047CA10 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G047CD03 ,  4G047CD07 ,  4G059AA01 ,  4G059AC30 ,  4G059EA04 ,  4G059EA11 ,  4G059EB09 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA16A ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA13 ,  4G069CA17 ,  4G069CC33 ,  4G069EA01X ,  4G069EA01Y ,  4G069EA08 ,  4G069EA14 ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC27 ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB29 ,  4G069FB58 ,  4G069FB80 ,  4G069FC07 ,  5F051AA14 ,  5F051FA04 ,  5F051FA30 ,  5F051HA15

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 空気中に含まれる窒素酸化物濃度の低減方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-339757   出願人：工業技術院長, エコデバイス株式会社
• 品質保持剤及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-180644   出願人：工業技術院長, 丸勝産業株式会社, 垰田博史, 渡辺栄次, 野浪亨, 深谷光春
• 光触媒体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-207482   出願人：シャープ株式会社, 大阪府