特許

J-GLOBAL ID：200903006224135304

ナノワイヤを用いた電気素子の製造方法及び製造装置

発明者： 高橋 祐彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (3件)： 山下 穣平 ,  志村 博 ,  永井 道雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-352577
公開番号（公開出願番号）：特開2007-158120
出願日： 2005年12月06日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：

【課題】ナノワイヤを用いた電気素子の製造方法において、ナノワイヤの配向・配列制御を簡易なプロセスで行う。【解決手段】電気素子の製造方法において、まず、複数のナノワイヤ13が溶媒中に分散された溶液12と、溶媒を流し且つ複数のナノワイヤ13をせき止めるストッパー14を有する流路と11を用意する。次いで、溶液12を流路11に沿って流すことにより、ストッパー14上に複数のナノワイヤ13をせき止めて堆積させ、その配向を制御する。そして、配向制御された状態の複数のナノワイヤ13から成るナノワイヤ群15を電気素子用の基板上に形成する。好適には、ストッパー14上のナノワイヤ13がせき止められる流路の断面幅Wは、ナノワイヤ13の長軸長さLの2倍以下である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数のナノワイヤが溶媒中に分散された溶液と、前記溶媒を通し且つ前記複数のナノワイヤをせき止めるストッパーを有する流路とを用意する工程と、 前記溶液を前記流路に沿って流すことにより、前記ストッパー上に前記複数のナノワイヤをせき止めてその配向を制御する工程と、 配向制御された状態の複数のナノワイヤから成るナノワイヤ群を電気素子用の基板上に形成する工程とを有することを特徴とするナノワイヤを用いた電気素子の製造方法。

IPC (4件)：

H01L 29/786 ,  H01L 21/336 ,  B82B 3/00 ,  H01L 29/06

FI (6件)：

H01L29/78 618A ,  B82B3/00 ,  H01L29/06 601N ,  H01L29/78 618B ,  H01L29/78 626Z ,  H01L29/78 618C

Fターム (12件)：

5F110AA30 ,  5F110BB01 ,  5F110CC03 ,  5F110FF02 ,  5F110GG01 ,  5F110GG02 ,  5F110GG03 ,  5F110GG04 ,  5F110GG22 ,  5F110GG25 ,  5F110GG28 ,  5F110GG42

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 量子細線の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-274014   出願人：ソニー株式会社
• 米国特許第6882051号明細書
  
• 米国特許第6872645号明細書