特許
J-GLOBAL ID：200903006265634854
磁気抵抗効果膜及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-347219
公開番号（公開出願番号）：特開平10-188235
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：
【要約】【課題】 ゼロ磁場前後で直線的に大きな抵抗変化を示し、しかも熱安定性及び磁界感度の優れた磁気抵抗効果膜及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の磁気抵抗効果膜は、磁性薄膜1と反強磁性結合した磁性多層膜2とが非磁性薄膜3を介して隣接していることを特徴とする。磁性薄膜1と磁性多層膜2との飽和磁界をそれぞれH<SB>S1</SB>,H<SB>S2</SB>とすると、H<SB>S1</SB><H<SB>S2</SB>となる。また、反強磁性薄膜5に磁性多層膜2が積層されている。磁性多層膜2は、磁性層21、非磁性層22及び磁性層23の三層からなる。
請求項（抜粋）：
磁性薄膜と反強磁性結合した磁性多層膜とが非磁性薄膜を介して隣接していることを特徴とする磁気抵抗効果膜。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
