特許
J-GLOBAL ID:200903006288917365
クロム-酸素合金薄膜の製造法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-257382
公開番号(公開出願番号):特開平8-092730
出願日: 1994年09月27日
公開日(公表日): 1996年04月09日
要約:
【要約】【目的】 本来高いゲージ率、即ち歪に対する高い感度を有するというクロムの特性を必要以上に低下させることなく、換言すれば低い酸素含有率でしかも温度変化に対して影響を受け難い低抵抗温度係数を有し、従って歪ゲージ用薄膜などとして有効に使用し得るクロム-酸素合金薄膜の製造法を提供する。【構成】 クロムをターゲットとして、10-4〜10-2Paオーダーの酸素ガス分圧のアルゴン-酸素混合ガス雰囲気中で高周波スパッタリング法を適用し、酸素含有率が約0.1〜3原子%のクロム-酸素合金薄膜を製造する。
請求項(抜粋):
クロムをターゲットとし、10-4〜10-2Paオーダーの酸素ガス分圧のアルゴン-酸素混合ガス雰囲気中で薄膜化手段を適用することを特徴とする、酸素含有率が約0.1〜3原子%のクロム-酸素合金薄膜の製造法。
IPC (5件):
C23C 14/08
, C23C 14/34
, C23C 16/40
, G01B 7/16
, G01L 1/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
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固定皮膜抵抗器
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-361426
出願人:多摩電気工業株式会社
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特開昭62-105406
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特開平2-076201
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