特許
J-GLOBAL ID:200903006323166092

ホログラム転写箔及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-018778
公開番号(公開出願番号):特開平9-212070
出願日: 1996年02月05日
公開日(公表日): 1997年08月15日
要約:
【要約】【課題】溶融押出成形法を利用して、ホログラム形成樹脂層の表面に経済的かつ装飾効果の高いレリーフ型ホログラムを形成したものであり、転写層の剥離性、箔切れ性などが極めて優れ、さらに、一度、転写した後も箔を回収して再使用することが可能なホログラム転写箔とその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】基材シート上にホログラム形成樹脂層、剥離層、光反射層、接着剤層を順次積層して成るホログラム転写箔において、剥離層と光反射層の界面の密着を構成上最も弱くなるようにそれぞれ親和性の低い材料を用いて形成し、剥離層と光反射層との界面で剥離し易い構成としたラベル及びその製造方法である。
請求項(抜粋):
基材シート上にホログラム形成樹脂層、剥離層、光反射層、接着剤層を順次積層して成るホログラム転写箔において、剥離層と光反射層の界面の密着を、構成上最も弱くなるようにそれぞれ互いに親和性の低い材料を用いて形成し、剥離層と光反射層との界面で剥離が起こる構成としたことを特徴とするホログラム転写箔。
IPC (2件):
G03H 1/18 ,  G09F 3/02
FI (2件):
G03H 1/18 ,  G09F 3/02 W
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 半導体装置の製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-230628   出願人:日本電気株式会社
  • 特開平2-195373

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