特許
J-GLOBAL ID：200903006325088250
被膜形成用塗布液およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060057
公開番号（公開出願番号）：特開平5-263045
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【構成】 一般式Rn Si(OR’)4-n で示されるアルコキシシランを加水分解重縮合して得られる特定のアルコキシシランから得られたシリカゾル(A)と、この種のアルコキシシランまたはその部分加水分解物(B)との反応物を含み、かつ液中のイオン濃度が1.0ミリモル/リットル以下である被膜形成用塗布液、およびこのようなイオン濃度を陽イオン交換樹脂による処理と陰イオン交換樹脂による処理によって行なう被膜形成用塗布液の製造方法。【効果】 前記被膜形成用塗布液によれば、ボイド、ピンホールなどがほとんどなく、緻密であって、密着性、機械的強度、耐薬品性、耐湿性、絶縁性などに優れ、さらに比誘電率が低いシリカ系被膜を基材上に形成することができる。
請求項（抜粋）：
一般式Rn Si(OR’)4-n (式中、R、R’は炭素数1〜8のアルキル基、アリール基またはビニル基を表わし、nは0〜3の整数である。)で示されるアルコキシシランを加水分解重縮合して得られるシリカゾル(A)と、前記アルコキシシランまたはその部分加水分解物(B)との反応物を含む被膜形成用塗布液であって、該塗布液中のイオン濃度が1.0ミリモル/リットル以下であることを特徴とする被膜形成用塗布液。
引用特許：
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