特許
J-GLOBAL ID：200903006342448899

表面処理剤および表面処理されたEPDM物品

発明者：
下津 弘義

下津 弘義 について


出願人/特許権者：
東芝シリコーン株式会社

東芝シリコーン株式会社 について


代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-204535
公開番号（公開出願番号）：特開平11-043647
出願日： 1997年07月30日
公開日（公表日）： 1999年02月16日
要約：
【要約】【課題】 基材表面の処理剤として、特にEPDMのゴムシートおよびモールド成形スポンジ基材の表面処理剤として、非粘着性、撥水性および滑り性が優れており、基材に対する密着性が著しく改善された皮膜を形成しうる表面処理剤を提供する。【解決手段】 (A)(1)少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合した置換又は非置換アミノ基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシラン及び/又はシロキサンと (2)ケイ素原子に結合した、エポキシ基含有基で置換された1価の炭化水素基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシラン、ケイ素原子に結合した、エポキシ基含有基で置換された1価の炭化水素基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシロキサン、との反応生成物、及び(B) アミノ基を含有する特定のポリオルガノシロキサンとを含有することを特徴とする表面処理剤。
請求項（抜粋）：
(A)(1)少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合した置換又は非置換アミノ基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシラン及び/又はシロキサンと(2)ケイ素原子に結合した、エポキシ基含有基で置換された1価の炭化水素基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシラン、ケイ素原子に結合した、エポキシ基含有基で置換された1価の炭化水素基と、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を有するシロキサン、との反応生成物(B) 平均組成式[R1aSi(OR2)bO(4-a-b)/2]n(ただし、R1は水素原子および1価の置換または非置換の炭化水素基から選ばれる少なくとも2種のものを示し、1分子中の全R1のうち少なくとも2個は、少なくとも1個の炭素原子を介してケイ素原子に結合した置換または非置換のアミノ基で置換された1価の炭化水素基である。R2は水素原子および1価の置換または非置換の炭化水素基を示す。a およびb は、1≦a ≦2.5 、1≦ a+b ≦2.5 、0≦b ≦0.5 の関係を満たす数であり、n は4〜5,000 の数を示す。)で示されるポリオルガノシロキサンとを含有することを特徴とする表面処理剤。
IPC (7件)：
C09D183/05 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/08 ,  C09D 5/00 ,  C09D183/08 ,  C08J 7/04 CES ,  C08J 7/04 CFH
FI (7件)：
C09D183/05 ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/08 ,  C09D 5/00 D ,  C09D183/08 ,  C08J 7/04 CES B ,  C08J 7/04 CFH M
引用特許：
審査官引用 (4件)
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