特許

J-GLOBAL ID：200903006354929698

基板処理装置

発明者： 宮 勝彦
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 梁瀬 右司 ,  振角 正一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-303727
公開番号（公開出願番号）：特開2006-120666
出願日： 2004年10月19日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】 基板の表面中央部への悪影響を防止しながら、周縁エッチング幅を均一にして処理する。【解決手段】 第1保持ローラ1A〜1Cが基板Wの端面に当接しつつ回転することで基板Wを保持しながら回転させる。そして、回転する基板表面Wfの周縁部に薬液ノズル142から薬液を供給することで基板表面Wfの周縁部のすべての領域に薬液が供給される。薬液ノズル142は、第1保持ローラ1A〜1Cのうちの2つの保持ローラの間であって、該保持ローラ対のうち基板Wの回転方向Aにおいて上流側に位置する上流側保持ローラの近傍に配置される。このため、薬液ノズル142から供給された薬液は下流側保持ローラに達するまでに除去され、薬液が保持ローラ対に衝突して跳ね返るのを防止することができる。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

所定の回転中心軸を中心として放射状に配置された複数の第1保持ローラを有し、各第1保持ローラを基板の端面に当接させつつ回転させることにより、該基板を保持しながら前記回転中心軸回りに回転させる第1回転保持手段と、 前記複数の第1保持ローラのうち前記第1回転保持手段によって回転される基板の周方向において互いに隣接する2つの保持ローラの間で、しかも該保持ローラ対のうち前記基板の回転方向において上流側に位置する上流側保持ローラの近傍に配置され、前記基板の表面周縁部に処理液を供給する周縁処理ノズルと を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/683 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L21/30 577 ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/68 N ,  H01L21/306 J

Fターム (12件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA24 ,  5F031HA26 ,  5F031HA59 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F043EE08 ,  5F043EE27 ,  5F043EE35 ,  5F043GG10 ,  5F046JA15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-038219   出願人：大日本スクリーン製造株式会社