特許

J-GLOBAL ID：200903006444787655

滅菌装置

発明者： 清水 尚博
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (6件)： 三好 秀和 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄 ,  鈴木 壯兵衞 ,  高久 浩一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-066563
公開番号（公開出願番号）：特開2008-302198
出願日： 2008年03月14日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：

【課題】被処理物の表面に有機物若しくは無機物等のゴミ(付着物質)が付着した場合でも、十分な滅菌が可能な滅菌装置を提供する。【解決手段】被処理物30を収納する滅菌処理室(23,53,54,62)と、滅菌処理室(23,53,54,62)の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段(11b,12,14)と、水蒸気を導入する水蒸気導入手段(1,71,44,72,45)と、処理ガスを導入する処理ガス導入手段(33,61,41)と、被処理物30に電磁波を照射する電磁波照射手段(2a,43a,42a,41a)とを備える。プラズマ発生手段は、滅菌処理室の内部に配置した第1電極11b及び第2電極12と、第1電極及び第2電極間との間に、デューティ比10-7〜10-1のパルスを印加し、第1電極及び第2電極間に非熱平衡プラズマを生成するパルス電源14とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理物を収納し、該被処理物を囲む密閉空間を構成する滅菌処理室と、 該滅菌処理室の内部にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、 前記滅菌処理室の内部に水蒸気を導入する水蒸気導入手段と、 前記滅菌処理室の内部に処理ガスを導入する処理ガス導入手段と、 前記滅菌処理室に収納された被処理物に電磁波を照射する電磁波照射手段 とを備え、前記プラズマ発生手段は、 前記滅菌処理室の内部に配置した第1電極及び第2電極と、 前記第1電極及び第2電極間との間に、デューティ比10-7〜10-1のパルスを印加し、前記第1電極及び第2電極間に非熱平衡プラズマを生成するパルス電源とを有し、 前記電磁波と前記非熱平衡プラズマとを、前記被処理物の表面に付着した細菌又は微生物に逐次照射することにより、前記被処理物を滅菌することを特徴とする滅菌装置。

IPC (5件)：

A61L 2/14 ,  A61L 2/04 ,  B65B 55/08 ,  A61L 2/20 ,  A61L 2/08

FI (6件)：

A61L2/14 ,  A61L2/04 A ,  B65B55/08 Z ,  B65B55/08 B ,  A61L2/20 G ,  A61L2/08

Fターム (12件)：

4C052AA10 ,  4C052LL06 ,  4C058AA12 ,  4C058AA14 ,  4C058AA17 ,  4C058AA21 ,  4C058AA25 ,  4C058BB03 ,  4C058BB06 ,  4C058BB09 ,  4C058KK06 ,  4C058KK21

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ消毒システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-568475   出願人：ヒューマンメディテックコーポレイションリミテッド