特許
J-GLOBAL ID：200903006453969510
マルチチャンバー型真空処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-178468
公開番号（公開出願番号）：特開2007-291530
出願日： 2007年07月06日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】真空チャンバーを設置した後においても、ユーザーの要望等によって真空チャンバーの形状や大きさを簡易に変更することができるようにする。【解決手段】本発明に係るマルチチャンバー型真空処理装置は、搬送室としての真空チャンバー1が、枠状のチャンバー本体2と、このチャンバー本体2の少なくとも一側面部に着脱自在に取り付けられる多角形状の側面枠3a,3bとの組立体で構成されている。この構成により、真空チャンバーを組み立てた後において、ユーザーの要求等に応じて別の多角形状の側面枠に容易に取り替えて真空チャンバーの形状を変更することができ、ユーザーの要求仕様にフレキシブルに対応することが可能となる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
搬送室と、この搬送室の周囲に配置された複数の真空処理室とを備えたマルチチャンバー型真空処理装置であって、
前記搬送室は、枠状のチャンバー本体と、このチャンバー本体の少なくとも一側面に着脱自在に取り付けられる多角形状の側面枠との組立体からなる
ことを特徴とするマルチチャンバー型真空処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4K029AA09
, 4K029BA02
, 4K029BD02
, 4K029CA05
, 4K029DA01
, 4K029KA01
, 4K029KA09
