特許
J-GLOBAL ID:200903006475675570
合成反応装置及びそれを用いる合成反応方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-075246
公開番号(公開出願番号):特開2002-273206
出願日: 2001年03月16日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】【課題】 微少な流路を用いた液相中での合成反応において、気泡の発生を抑制し、安定且つ効率的に目的物を製造する方法を提供する。【解決手段】 内径の相当直径が10〜10000μmの管型反応管と、管型反応管の供給部の上流側に脱ガス装置を有することを特徴とする合成反応装置。
請求項(抜粋):
内径の相当直径が10〜10000μmの管型反応管と、管型反応管の供給部の上流側に脱ガス装置を有することを特徴とする合成反応装置。
IPC (6件):
B01J 19/00 321
, B01D 19/00
, B01D 19/00 101
, B01J 19/10
, C07C 67/08
, C07C 69/16
FI (6件):
B01J 19/00 321
, B01D 19/00 C
, B01D 19/00 101
, B01J 19/10
, C07C 67/08
, C07C 69/16
Fターム (19件):
4D011AA16
, 4D011AA18
, 4G075AA13
, 4G075BA10
, 4G075BD13
, 4G075BD15
, 4G075BD16
, 4G075DA01
, 4G075EC07
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AC48
, 4H006AC90
, 4H006BA51
, 4H006BA69
, 4H006BD10
, 4H006BD81
, 4H006KA06
, 4H006KC10
引用特許:
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