特許
J-GLOBAL ID:200903006490691140
干渉計測装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-356740
公開番号(公開出願番号):特開2000-180135
出願日: 1998年12月15日
公開日(公表日): 2000年06月30日
要約:
【要約】【課題】 振動や空気のゆらぎ等の外乱の影響による計測誤差を簡易に除去することができる干渉計測装置を提供する。【解決手段】 干渉計測装置10は、試料20に対してレーザ光を投光する半導体レーザ1と、半導体レーザ1と試料20との間に配置されたビームスプリッタ2と、ビームスプリッタ2の一側および他側にそれぞれ配置された参照鏡3および検出器4とを備えている。ビームスプリッタ2においては、試料20へ導かれて反射されたレーザ光と、参照鏡3へ導かれて反射されたレーザ光とを合成して干渉光を形成し、その一部をレンズ9を介して検出器4へ導くとともに、残りをレンズ7を介して半導体レーザ1へ戻すことができるようになっている。また、干渉計測装置10は、半導体レーザ1とビームスプリッタ2との間に配置されビームスプリッタ2およびレンズ7を介して半導体レーザ1へ戻るレーザ光の量を調節する光量調節器6を備えている。
請求項(抜粋):
試料に対して光を投光する光源と、前記光源と前記試料との間に配置されたビームスプリッタと、前記試料と異なる位置に配置され前記ビームスプリッタを通して導かれた光を反射する参照鏡と、前記ビームスプリッタを通り前記試料で反射された光と、前記ビームスプリッタを通り前記参照鏡で反射された光との干渉光を検出する検出器とを備え、前記光源、前記ビームスプリッタおよび前記参照鏡は、前記ビームスプリッタを通り前記試料で反射された光と、前記ビームスプリッタを通り前記参照鏡で反射された光とが前記ビームスプリッタを介して前記光源へ戻るよう配置されていることを特徴とする干渉計測装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (25件):
2F064AA09
, 2F064DD04
, 2F064DD05
, 2F064EE02
, 2F064FF02
, 2F064GG12
, 2F064GG33
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2F064JJ01
, 2F064KK01
, 2F065AA53
, 2F065DD14
, 2F065FF04
, 2F065FF52
, 2F065GG06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL12
, 2F065LL33
, 2F065NN01
, 2F065QQ17
, 2F065QQ31
, 2F065QQ42
引用特許:
審査官引用 (1件)
-
半導体レーザ光源
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-291094
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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