特許
J-GLOBAL ID：200903006507879261
荷電ビーム描画方法及び描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144549
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307262
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】 CP描画方式の効果を十分に発揮してスループットの極めて高い描画を行うことができ、しかもアパーチャマスクに形成すべきCPセルの抽出を容易に行い得る電子ビーム描画方法を提供すること。【構成】 ステージを連続移動しながらフレームを順次描画するCP方式の電子ビーム描画方法において、サンプルエリアを基本図形用アパーチャのみで描画するに必要な描画時間Aと各候補セルをキャラクタ化して描画した場合の短縮時間ΔAcを全てのサンプルエリアで求めた後、アパーチャ36に形成する候補セルの全ての組合せに対し、対応する短縮時間ΔAcの和を描画時間Aから引くことで各サンプルエリアにおける描画時間を算出し、描画時間が最も長いサンプルエリアを元に各フレームの描画時間を求め、これらフレーム描画時間の和で与えられる描画全領域の描画時間が最も短い候補セルの組合せをアパーチャ36上に形成する。
請求項（抜粋）：
基本図形に対応する成形ビームを形成するための基本図形用アパーチャと繰り返しパターンに相当するキャラクタ用アパーチャとが形成されたアパーチャマスクを用い、試料を載置したステージを連続移動しながら、所定幅に分割された描画領域(フレーム)を順次描画する荷電ビーム描画方法において、描画すべき所望のデータの中から繰り返し使用されるパターンをそれぞれ抽出してキャラクタセルにすべき候補セルとし、前記フレームをステージ連続移動方向に仮想的に小領域(サンプルエリア)に分割し、該サンプルエリアを基本図形用アパーチャのみを用いて描画するに必要な描画時間Aと各々の候補セルに対し該セルをキャラクタ化して描画した場合の各短縮時間ΔAcとを全てのサンプルエリアについて求めた後、各々の候補セルから前記アパーチャマスクに形成するキャラクタ用アパーチャの所定数を選んで全ての組み合わせを作成し、全ての組み合わせに対して、対応する短縮時間ΔAcの和を描画時間Aから引くことにより、各々のサンプルエリアにおける描画時間を算出し、前記各フレームにおける描画時間が最も長いサンプルエリアの描画時間Tを求めて、(フレームの長さ/サンプルエリアの幅)×Tによって各々のフレームの描画時間を求め、これらのフレーム描画時間の和で与えられる描画全領域の描画時間を算出し、描画全領域の描画時間が最も短い候補セルの組み合わせを求め、この組み合わせで前記アパーチャマスク上のアパーチャパターンを形成することを特徴とする荷電ビーム描画方法。
引用特許：
引用文献：
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