特許

J-GLOBAL ID：200903006508463344

無機粉末を疎水性にする効率的な方法

発明者： ジョン・アイバンビー・オサヒニ ,  ジョン・ピーター・ベインビシウス ,  スタンリー・テレサ・ブドル
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-134043
公開番号（公開出願番号）：特開平9-110415
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 化学量論に近い量の処理剤を使用しながら、短い滞留時間でほどほどの温度で作業することのできる、無機粉末を疎水性にするための経済的な方法の提供。【解決手段】 原料無機粉末を、流動化処理温度よりも低い沸点をもつ少なくとも1種のシリル化剤と共に機械的に流動化処理する。原料無機粉末は、好ましくはヒュームドシリカである。この処理は、連続式でも回分式でも実施できる。

請求項（抜粋）：

原料無機粉末及び流動化処理温度よりも低い沸点をもつ少なくとも1種のシリル化剤を機械的に流動化することからなる、原料無機粉末の処理方法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 ,  C09C 3/12 PBU

FI (2件)：

C01B 33/18 C ,  C09C 3/12 PBU

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 疎水性微細シリカおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-152382   出願人：株式会社トクヤマ
• 特開昭56-164008
  
• 疎水性シリカ粉体、その製法とそれを含む電子写真用現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-336790   出願人：三菱マテリアル株式会社