特許
J-GLOBAL ID：200903006541150068
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-194335
公開番号（公開出願番号）：特開2008-103678
出願日： 2007年07月26日
公開日（公表日）： 2008年05月01日
要約：
【課題】基板上に形成されたシリコン窒化膜のエッチングレートを一定に維持することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液は、循環ライン20を通して循環されている。シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板Wが浸漬処理槽10のリン酸水溶液中に浸漬されることによってシリコン窒化膜の選択的なエッチング処理が進行する。再生ライン30は、循環ライン20を通して循環されるリン酸水溶液の一部を取り出して再生装置31によりシロキサンを回収・排出してリン酸水溶液を再生する。制御部40は、出側濃度計24および入側濃度計32の測定結果に基づいて流量調整弁33を制御し、浸漬処理槽10に貯留されているリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度が一定となるように浸漬処理槽10に還流するリン酸水溶液の流量を調整する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
シリコン酸化膜およびシリコン窒化膜が形成された基板をリン酸水溶液中に浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を行う基板処理装置であって、
リン酸水溶液を貯留し、リン酸水溶液中に前記基板を浸漬してシリコン窒化膜のエッチング処理を進行させる浸漬処理槽と、
前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液を再び前記浸漬処理槽に還流させる循環ラインと、
前記循環ラインから分岐され、前記循環ラインを流れるリン酸水溶液の一部を前記循環ラインとは別経路にて前記浸漬処理槽に還流させる再生ラインと、
前記再生ラインの経路中に介挿され、前記再生ラインを流れるリン酸水溶液中に含まれるシロキサンを回収してリン酸水溶液を再生する再生機構と、
前記循環ラインの経路中に介挿され、前記浸漬処理槽から排出されたリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度を測定する第1の濃度計と、
前記再生ラインの経路のうち前記再生機構よりも下流側に介挿され、前記再生機構によって再生されたリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度を測定する第2の濃度計と、
前記再生ラインの経路のうち前記第2の濃度計よりも下流側に介挿され、前記再生ラインを流れるリン酸水溶液の流量を調整する流量調整手段と、
前記第1の濃度計および第2の濃度計の測定結果に基づいて、前記浸漬処理槽に貯留されているリン酸水溶液中に含まれるシロキサンの濃度がほぼ一定となるように前記流量調整手段を制御して前記再生ラインから前記浸漬処理槽に還流するリン酸水溶液の流量を調整する制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043DD23
, 5F043EE23
, 5F043EE24
, 5F043EE25
