特許
J-GLOBAL ID：200903006587671810
可溶性膜形成デンドリマーを含む高感度フォトレジスト組成物およびそれを使用したパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164184
公開番号（公開出願番号）：特開2002-049152
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：
【要約】【課題】 Eビーム・リソグラフィで使用するための、有機溶媒で現像可能な高感度かつ高解像度のフォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 本発明の組成物は、デンドリマー・カリックス[4]アレーン誘導体【化21】の高感度可溶性膜形成フォトレジスト組成物を含み、酸触媒作用下でこれらのデンドリマーと反応可能なグリコールウリル誘導体から選択された架橋剤、フォト酸生成剤および有機溶媒とともに、リソグラフィ・パターンを形成する。本発明の組成物は、高解像度(100ナノメートル未満)のネガ型イメージの生成に特に有用である。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト・パターンを形成する方法であって、1分子あたり少なくとも8つのヒドロキシル基を有する膜形成可溶性脂肪族ヒドロキシ官能基性デンドリマー、グリコールウリル誘導体、フォト酸生成剤、有機溶媒を含む未硬化膜を基板上に提供する段階と、Eビーム・エネルギーで前記膜をイメージ通りにパターンに露光し、これによって前記パターン中に酸触媒を生成させる段階と、露光した前記膜をベークする段階と、有機溶媒溶液中で前記フォトレジストを現像する段階を含む方法。
IPC (2件)：
G03F 7/038 601
, H01L 21/027
G03F 7/038 601
, H01L 21/30 541 P
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC06
, 2H025BE00
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC03
, 2H025CC17
, 2H025FA12
, 2H025FA15
, 5F056DA04
