特許
J-GLOBAL ID：200903006649766723
透過型電子顕微鏡用試料作製装置及び試料作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
桂木 雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-064979
公開番号（公開出願番号）：特開2000-258314
出願日： 1999年03月11日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、集束イオンビーム装置により薄膜化した観察部を作製する際にその側面に生成される非晶質層を除去する透過型電子顕微鏡用試料作製装置に関し、再デポを生じさせないで有効に非晶質層を除去する。【解決手段】 集束イオンビーム装置により薄膜化形成した観察部44の基部側の試料面に設けられ、正の電位に維持される第1電極1と、前記観察部の端面との間に間隙をおいて配置され、負の電位に維持される第2電極2と、前記観察部の側面に向けてArイオンビームを照射するArイオンビーム発生器4とを備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
透過型電子顕微鏡の試料を集束イオンビーム装置により薄膜化形成するための装置において、前記薄膜化された試料の観察部側面に平行に電界を印加するための電界印加手段と、前記試料の観察部側面に向けてArイオンビームを照射するためのArイオンビーム発生手段とを備えることを特徴とする透過型電子顕微鏡用試料作製装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 1/28 G
, G01N 1/32 B
