特許
J-GLOBAL ID:200903006656712159

純水素発生用小型装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 杉村 憲司 ,  杉村 興作 ,  来間 清志 ,  藤谷 史朗 ,  澤田 達也 ,  冨田 和幸
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-507791
公開番号(公開出願番号):特表2008-536796
出願日: 2006年04月12日
公開日(公表日): 2008年09月11日
要約:
水素発生器は、水素膜反応器、燃料供給、反応燃料供給ライン、空気供給、空気供給ライン、燃焼燃料供給ライン、排ガス供給ライン、燃焼副生成物を燃焼室から移送するための燃焼副生成物ライン、及び反応生成物ラインを具える。水素発生器の反応室に接合すべき膜アセンブリは、膜と、焼結多孔性金属を含む膜支持体とを具える。反応器アセンブリは、多孔性金属支持体を含む反応室、二つの膜アセンブリ、燃料供給、反応燃料供給ライン、排ガス供給ライン、及び反応生成物ラインを具える。方法は、水素発生器、膜アセンブリ、及び反応器アセンブリと関連する。
請求項(抜粋):
反応室と流体連通し且つ熱交換関係にある燃焼室を有する水素膜反応器と、 燃料供給と、 前記燃料供給から前記反応室に燃料を移送するための反応燃料供給ラインと、 空気供給と、 前記空気供給から前記燃焼室に酸素を移送するための空気供給ラインと、 前記燃料供給から前記燃焼室に燃料を移送するための燃焼燃料供給ラインと、 前記反応室から排ガスを移送するための排ガス供給ラインと、 前記燃焼室から燃焼副生成物を移送するための燃焼副生成物ラインと、 前記反応室から水素を移送するための反応生成物ラインと、 を具える水素発生器。
IPC (1件):
C01B 3/38
FI (1件):
C01B3/38
Fターム (14件):
4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB12 ,  4G140EB14 ,  4G140EB19 ,  4G140EB23 ,  4G140EB37 ,  4G140EB46 ,  4G140EB48 ,  4G140EC01 ,  4G140EC03 ,  5H027AA06 ,  5H027BA14
引用特許:
審査官引用 (2件)

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